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    晶盛聯合創新產業園項目大樓主體全面封頂,加速推進國產大硅片設備研發創新
    發布時間:2023-01-13 信息來源: 瀏覽次數:1076



           1月12日,晶盛聯合創新產業園項目大樓主體全面封頂。這是晶盛布局“三大制造基地”“兩大實驗中心”重要一步。


    上虞區領導、杭州灣經開區領導、公司高管出席封頂儀式


           該產業園位于杭州灣經濟開發區高端智造集聚區,總建筑面積約10.9萬平方米。自2022年4月摘地到主體全面封頂用時不足一年,充分展現“晶盛速度”。


           為了助力12英寸大硅片的發展,晶盛機電投資8億元,在產業園建設12英寸集成電路大硅片設備測試實驗線,配置行業前沿的試驗檢測設備,建設滿足高標準要求的試驗環境場地,完善公司在試驗檢測環節的硬件設施,提供滿足不同測試要求的試驗,積極追蹤和運用半導體新技術,實現產品較快的優化以及迭代升級。


    晶盛聯合創新產業園效果圖


            試驗線2023年7月投入使用后,將加速推進國產大硅片設備研發創新,推動公司設備工藝改進并實現國際領先,為客戶提供硅片設備和硅片生產線測試,加快創新過程,提升客戶的競爭力,解決客戶在半導體賽道核心技術被“卡脖子”的難題。同時,還將有利于培育研發及工藝人才,加速企業科技成果轉化;助力大硅片設備和輔料耗材、零部件的測試,補齊集成電路大硅片設備供應鏈的短板,加快大硅片設備和輔料耗材的國產化進程,完善集成電路大硅片產業鏈。


           作為國內領先的“先進材料、先進裝備”的高新技術企業,晶盛機電將不斷加快研發創新進程,向著“打造全球領先的半導體材料裝備企業”的目標奮進,用創新賦能中國半導體產業的發展。
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